Мішень для розпилення танталу високої чистоти

Мішень для розпилення танталу високої чистоти

Матеріал: чистий тантал і сплав
Хімічний склад: Ta (99,95% min). Nb. В. Фе
Назва продукту: Мішень для напилення танталу з чистого танталу за вигідною ціною
Матеріал: чистий тантал і сплав
Послати повідомлення
Опис
Технічні параметри
Мішені для розпилення танталу високої чистоти можна налаштувати відповідно до ваших вимог

 

Технічні характеристики
Матеріал: R05200
Чистота: більше або дорівнює 99,95%, більше або дорівнює 99,99%
Розмір: індивідуальний
Стандарт: ASTM B708-2012
Застосування: Використовується для напилення покриттів оптичного волокна, напівпровідникових пластин та інтегральних схем. Використовується для скла, кераміки, LCD покриття. Використовується для катодного напилення, високовакуумної адсорбції активних матеріалів тощо.

 

Технічні характеристики танталових мішеней

 

пункт

Хороша ціна чистих мішеней для танталового напилення

матеріал

чистий тантал і сплав

Щільність

16,6 Г/см3

Поверхня

полірований, яскравий, прокатний

Форма

круглий диск, малий диск, великий диск

MOQ

1 шт

застосування

Промислові, електронні, медичні

 

Наш сервіс

 

1. Професійний виробник--15 років досвіду

2. Суворий контроль якості - перевірка SGS

3. Висока потужність постачання--3000MT/місяць

4. Оперативна доставка - протягом 15 днів

 

Відвідування клієнта та середовище компанії

 

High Purity ta Sputtering Target  supplier

High Purity Tantalum Sputtering Target  supplier

Zhenan – це компанія з 200+ співробітниками та виробничою площею 30000+ квадратних метрів. Ми маємо 30+-річний досвід виробництва та виробництва металу. Ласкаво просимо зв'язатися з нами, щоб придбати продукти.

Популярні Мітки: мішень для напилення танталу високої чистоти, Китай мішені для напилення танталу високої чистоти, виробники, постачальники, фабрика